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API臭氧儀和ADEV微量氧分析儀在半導體清洗設備行業(yè)的技術參數(shù)。|埃登威自動化系統(tǒng)設備（上海）有限公司

API臭氧儀和ADEV微量氧分析儀在半導體清洗設備行業(yè)的技術參數(shù)。



現(xiàn)在，中國已經(jīng)成為世界上*大的電子產(chǎn)品消費市場，對半導體產(chǎn)品的需求量很大。在2019年，中國大陸半導體銷售占到了全球的35%，并且銷售增長速度持續(xù)高于國際市場，中國已成為世界上*有活力、*有發(fā)展前景的半導體市場。自2019年四季度以來，全球半導體行業(yè)逐步復蘇，各行業(yè)開啟了新一輪補庫存周期，因此，2020年一季度國內(nèi)半導體行業(yè)表現(xiàn)較好，1月、2月份半導體銷售額分別同比增長5.2%、5.5%，今年一季度集成電路產(chǎn)量比去年同期增長了16%。



由于晶圓廠投資的增加，國內(nèi)半導體設備的需求急劇上升。在2019年，中國內(nèi)地銷售總額達134.5億美元，占全球市場的22.5%，是世界**大半導體設備市場。而在國內(nèi)設備市場上，臺積電、英特爾、三星、SK海力士等大陸廠商的設備需求約占到50%，所以大陸地區(qū)的晶片廠所需設備占到約11%。半導體設備市場上清潔設備的價值約占5-6%。與光刻、蝕刻等核心設備相比，其價值較低，技術門檻較低。據(jù)智慧型研究咨詢公司發(fā)布的《2020-2026年中國半導體清潔設備產(chǎn)業(yè)市場管理及競爭戰(zhàn)略建議報告》顯示，2015年全球半導體清潔設備市場規(guī)模達26億美元，預計2020年達37億美元，復合增長率7%。據(jù)估計，中國大陸地區(qū)每年濕法清洗設備的投資約為15-20億美元，到2023年國產(chǎn)化率可達到40%-50%，也就是說，國產(chǎn)設備的市場空間在40-70億元之間，而未來12英寸晶圓片的槽式和單片清洗設備將是市場增長的主要動力。單片式清洗機領域的公司有望成為少數(shù)具有核心技術的國內(nèi)設備制造商。API臭氧儀和ADEV微氧分析儀技術參數(shù)清洗是半導體工藝的重要環(huán)節(jié)，是影響設備成品率和可靠性的*重要因素之一。為減少雜質(zhì)對晶片良率的影響，在實際生產(chǎn)中不僅要提高單清洗效率，而且?guī)缀趺總€工序都要經(jīng)常清洗，清洗工序占工序的三分之一左右。IC工藝升級，清洗環(huán)節(jié)的重要性日益突出。隨著半導體晶片加工技術的發(fā)展，工藝技術結(jié)點已經(jīng)達到了28.14納米等更高水平，流程不斷延長，產(chǎn)品的成材率也會相應下降。導致這一現(xiàn)象的原因之一是先進工藝對雜質(zhì)的敏感程度較高，難以有效地**小顆粒污染物。而解決方案則主要是增加清洗步驟，使晶片清洗更為復雜，重要性和挑戰(zhàn)性。根據(jù)清洗原理，清洗設備可以分為干式清洗機和濕式清洗機。濕法處理是指使用一種具有強烈腐蝕性或氧化作用的溶劑噴射或擦洗，使硅中的雜質(zhì)與溶劑發(fā)生化學反應而產(chǎn)生可溶性物質(zhì)或氣體，從而**晶圓上顯示的顆?；蚱渌饘匐x子。干式清洗是指無需使用化學試劑的清洗技術，包括等離子清洗，氣體清洗等。兩種清洗方法在實際生產(chǎn)過程中一般采用，目前90%以上的清洗工序是以濕法設備為主，少數(shù)特殊場所采用干法清洗，以提高清洗效率。濕法清洗設備主要生產(chǎn)純科技。目前，中國市場的主要濕法設備制造商主要是日本和歐洲和美國。當?shù)卦O備制造商主要包括純科技、北方華創(chuàng)和盛美半導體，但三家公司的總市場份額不到10%。目前，盛美半導體的主要產(chǎn)品是單片清洗設備，純技術單片清洗設備正處于客戶驗證階段。目前，北方華創(chuàng)和純技術仍以槽清洗為主，三大核心產(chǎn)品不同，積極競爭較少。半導體清洗設備行業(yè)市場容量API臭氧儀與ADEV微量氧分析儀技術參數(shù)中國國內(nèi)的半導體清洗設備的主要廠家有三家，體量都不大，分別是盛美半導體，北方華創(chuàng)和至純科技。盛美股份2019年收入為7.57億元，凈利潤為1.35億元。該產(chǎn)品以單片清洗為主，占總收入的72.81%，槽式清洗機占總收入的6%。北方華創(chuàng)主要清洗設備產(chǎn)品為單片及槽式清洗設備，可適用于技術節(jié)點為65nm、28nm工藝的芯片制造。其中，北方華創(chuàng)自有低端的單片清洗設備，并通過收購美國Akrion實現(xiàn)了槽式清洗設備的國產(chǎn)化。北方華創(chuàng)2019年收入40.58億元，凈利潤3.09億元。清洗機業(yè)務大約占比北方華創(chuàng)總收入的5%左右。在國內(nèi)單片式半導體清洗行業(yè)中，盛美半導體市占率*高。產(chǎn)品系列*豐富，技術優(yōu)勢明顯。其SAPS、TEBO技術使兆聲波能量均勻分布在晶圓上，避免其對晶圓電路的損害，同時又提高了清洗效果。北華和至純科技主要是用槽式清洗，到了純科技的單片清洗設備正處于客戶驗證階段，目前三個核心產(chǎn)品都有差異，正面競爭不多。純化技術是單片清洗機的后進者，但技術力量雄厚。目前，在國內(nèi)市場上，晶圓OEM的主要生產(chǎn)線仍集中在14nm以上，純技術剛剛進入單片領域，主要是定制個性化單片清洗設備，足以滿足OEM的需求。470水中臭氧傳感器是*先進的溶解臭氧測量模塊，為半導體濕法處理和許多其他工業(yè)過程設計。它能夠提供去離子水或硫酸中濃度高達150mg/L的溶解臭氧測量。470已經(jīng)完成了準備清洗，可以滿足高純度半導體過程的需要，可以簡單地拼接到任何濕處理的環(huán)流回路中，*高支持150SLPM的流量。470型傳感器使用雙路取樣傳感技術，達到了無與倫的性能，且擺脫了對參比液體測量的需求。常規(guī)安裝只包括470傳感器和Terminon7包的內(nèi)部連接電纜。470傳感器能夠通過模擬或數(shù)字信號向濕法處理過程控制臺遠程報告測量的濃度。



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