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半導體制造業(yè)常用高純氣體MEECO微量水分析儀DF310E微量氧分析儀測量|埃登威自動化系統(tǒng)設備(上海)有限公司

半導體制造業(yè)常用高純氣體MEECO微量水分析儀DF310E微量氧分析儀測量

在半導體制造業(yè)中,單位ppb范圍內的散裝氣體水分規(guī)格是標準。水分會導致顆粒形成,并可能導致對設備產量產生不利影響的缺陷。因此,在極低水平下檢測水分的能力至關重要。PPB級別的微量氧分析儀也已經成為行業(yè)標配

半導體制造業(yè)所使用的不同特種氣體大致可以分為五大類:另外,半導體材料與制造很靠上游的氣體,這些年正受到下游數(shù)字化技術的推進——這就讓垂直行業(yè)上的每個點都在相互作用。前不久我們參觀了林德東亞區(qū)的遠程控制中心(ROC)。林德是一家專門從事工業(yè)氣體業(yè)務,發(fā)端自德國的企業(yè);公司的歷史,已經超過百年。林德的業(yè)務實際上不止是電子和半導體,但就半導體、顯示面板而言,林德屬于行業(yè)相當上游的存在:臺積電、京東方、三星、長江存儲等都是林德的下游客戶。

常用高純氣體分類半導體制造業(yè)常用高純氣體MEECO微量水分析儀DF310E微量氧分析儀測量


      (1)惰性氣體:這些氣體本身一般不會直接對人體產生傷害,在氣體傳輸過程中,相對于**上的要求不如以上其他氣體嚴格。但惰性氣體具有窒息特性,在密閉空間若發(fā)生泄漏會使人窒息而造成工傷事故。屬于這類的氣體有C2F6、CF4等。

      (2)腐蝕性氣體:這些腐蝕性氣體通常同時也兼有較強的毒性。腐蝕性氣體在干燥狀態(tài)下一般不易侵蝕金屬,但在遇到水的環(huán)境下就顯示很強的腐蝕性,如HCI、HF、CIF3等。

      (3)毒性氣體:半導體制造行業(yè)中使用的氣體很多都是對人體有害、有毒的。其中又以AsH3、B2H6、PH3等氣體的毒性*大。這些氣體在工作環(huán)境中的允許濃度極微,因此在貯存、輸送以及使用的過程中都要求特別的小心。一般都應該采取特定的技術措施來控制使用這些氣體。NO、C4F6等都屬于毒性氣體。半導體制造業(yè)常用高純氣體MEECO微量水分析儀DF310E微量氧分析儀測量

      (4)氧化性氣體:這類氣體有較強的氧化性,一般同時具有其他特性,如毒性或腐蝕性等。屬于這類的氣體有CIF3、NF3等。 高純工業(yè)氣體的供應方式一般有多種,如現(xiàn)場制氣、用管道輸送供氣、槽車輸送供氣、外購氣體鋼瓶或鋼瓶組輸送供氣等。具體采用哪種供氣方式,主要考慮因素是工廠的生產規(guī)模和用氣要求以及周邊地區(qū)的氣體供應狀況等,既要做到確保供氣質量、運行管理方便,還要降低產品的生產成本,以便**、可靠、高效地供應氣體。

      (5)易燃性氣體:自燃、易燃、可燃氣體等都定義為這類氣體。如常溫下的SiH4氣體只要與空氣接觸就會燃燒,當環(huán)境溫度達到一定情況下,PH3與B2H6等氣體也會產生自燃??扇家兹細怏w都有一定的著火燃燒爆炸范圍,即上限、下限值。此范圍越大的氣體引起爆炸燃燒危險性就越高,如B2H6的爆炸上限為98%,爆炸下限為0.9%。屬于易燃氣體有H2、NH3、PH,、DCS、CIF3等等。

半導體制造業(yè)常用高純氣體MEECO微量水分析儀DF310E微量氧分析儀測量

MEECO微量水分析有很多型號,不做詳細介紹可以咨詢我們技術工程師

DF-310E微量氧分析儀測試范圍0-10ppm,


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