ADEV氧含量分析儀應(yīng)用于浮法玻璃錫槽保護(hù)氣檢測(cè)中
在浮法玻璃生產(chǎn)中，為確保玻璃質(zhì)量和降低錫的消耗，需要連續(xù)向錫槽提供定量的高純度氮?dú)夂蜌錃饣旌媳Ｗo(hù)氣體，以防止錫液氧化。然而，在某些情況中，準(zhǔn)確檢測(cè)氧氣含量是一項(xiàng)挑戰(zhàn)，特別是在高溫環(huán)境下達(dá)到ppm級(jí)別的微量氧工況。因此，選擇合適的氧含量分析儀對(duì)于準(zhǔn)確測(cè)量微量氧含量并調(diào)整優(yōu)化錫槽工況至關(guān)重要。ADEV氧含量分析儀應(yīng)用于浮法玻璃錫槽保護(hù)氣檢測(cè)中
保護(hù)氣體在浮法玻璃生產(chǎn)中扮演著至關(guān)重要的角色。為了確保錫液面的光亮潔凈，防止錫在高溫下被氧化并污染玻璃表面，需要使用惰性或還原性氣體作為保護(hù)氣體。目前，國(guó)內(nèi)外普遍采用氮?dú)馀c氫氣混合的氣體（氮?dú)庹?2％～96％，氫氣占4％～8％）作為錫槽的保護(hù)氣體。
在國(guó)內(nèi)浮法玻璃企業(yè)中，保護(hù)氣體的主要技術(shù)參數(shù)已經(jīng)得到了廣泛的應(yīng)用。供氣設(shè)備的壓力一般維持在0.03MPa左右，而流量（標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)）則保持在1400～1500m3/h的范圍內(nèi)。其中，氮?dú)獾牧髁浚?biāo)準(zhǔn)狀態(tài)）為1300～1400m3/h，而氫氣的流量（標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)）則為90～110m3/h，約占混合氣體的5％～8％。在錫槽內(nèi)，保護(hù)氣體的分布比例通常是首部為5％～6％，中部為2％～4％，尾部為4％～6％。ADEV氧含量分析儀應(yīng)用于浮法玻璃錫槽保護(hù)氣檢測(cè)中
此外，為了保護(hù)氣體的質(zhì)量，還需要控制一些關(guān)鍵指標(biāo)。氧氣的含量應(yīng)不超過(guò)10ppm，而露點(diǎn)則應(yīng)低于-60℃。這些指標(biāo)的控制有助于確保保護(hù)氣體的純度和干燥度，進(jìn)一步提高浮法玻璃生產(chǎn)的質(zhì)量和效率。
在選擇氧含量分析儀時(shí)，需要考慮不同分析儀的原理特點(diǎn)、優(yōu)缺點(diǎn)以及工藝條件和狀況。氧化鋯分析儀具有高靈敏度和寬測(cè)量覆蓋范圍，可以測(cè)量低至ppm級(jí)的微量氧和高至純氧。然而，在使用時(shí)需要注意還原性氣氛對(duì)電極的影響，以及可燃?xì)怏w和有害成分對(duì)測(cè)量精度和使用壽命的影響。相比之下，電化學(xué)氧含量分析儀適用于非酸性氣體微量氧的測(cè)定，性能穩(wěn)定，測(cè)量準(zhǔn)確，且不受還原性環(huán)境的影響。ADEV氧含量分析儀應(yīng)用于浮法玻璃錫槽保護(hù)氣檢測(cè)中
為了滿足工藝要求，需要確定合適的測(cè)量范圍和樣氣壓力。此外，在使用電化學(xué)氧含量分析儀時(shí)，需要注意防止?jié)B漏，因?yàn)榘惭b環(huán)境中的氧氣濃度遠(yuǎn)高于儀器分析的樣氣中的氧氣含量。因此，建議選用金屬管作為取樣管，并盡量縮短樣氣管路，以減少滲透對(duì)儀器準(zhǔn)確度的影響。
總之，保護(hù)氣體在浮法玻璃生產(chǎn)中起著重要的作用，合理的參數(shù)控制和質(zhì)量指標(biāo)是保證生產(chǎn)順利進(jìn)行和產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵。選擇合適的氧含量分析儀并正確使用，對(duì)于浮法玻璃生產(chǎn)中錫槽保護(hù)氣檢測(cè)至關(guān)重要，可以提高玻璃質(zhì)量和降低生產(chǎn)成本。
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