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影響ADEV氧分析儀因素及單晶硅氬氣測量應(yīng)用|埃登威自動化系統(tǒng)設(shè)備(上海)有限公司

影響ADEV氧分析儀因素及單晶硅氬氣測量應(yīng)用

一、影響氧分析儀測定的幾個因素

氧分析儀是工業(yè)在線過程分析的重要儀表,其準(zhǔn)確性受到多種因素的影響。以下為主要影響因素:

  1. 泄漏:氧分析儀的嚴(yán)密性是其準(zhǔn)確測量的前提。任何微小的泄漏都可能導(dǎo)致環(huán)境空氣中的氧氣滲入,導(dǎo)致測量結(jié)果偏高。初次啟用前,儀器的嚴(yán)密性檢查至關(guān)重要,而在使用過程中,也要注意各種連接點、焊點、閥門等的密封情況。
  2. 污染:在氧分析儀的使用過程中,污染是一個需要關(guān)注的問題。重新使用時,必須確保連接氧分析儀的取樣管路沒有漏入空氣,如果漏入空氣,需要將漏入的空氣吹除干凈,以保護(hù)傳感器的壽命。同時,管道系統(tǒng)的凈化也非常關(guān)鍵,采用高壓放氣與小流量吹除交替進(jìn)行的方式可以迅速凈化氧分析儀管道。影響ADEV氧分析儀因素及單晶硅氬氣測量應(yīng)用
  3. 管道材質(zhì)的選擇:管道材質(zhì)及表面粗糙度也可能影響樣氣中氧含量的變化。例如,塑料管、橡膠管等不適合作為連接管路。一般來說,銅管或不銹鋼管是更好的選擇,而對于超微量分析,必須用拋光過的不銹鋼管。
  4. 氣路系統(tǒng)的簡化及潔凈:微量分析要求盡可能減少氣路上的各種管件、閥門、表頭等中的死角對樣氣造成的污染。因此,氣路系統(tǒng)應(yīng)盡可能簡化,并選擇死角小的連接件。此外,應(yīng)避免使用水封、油封等設(shè)備,防止溶解氧的逸出。

二、單晶硅氬氣測量應(yīng)用影響ADEV氧分析儀因素及單晶硅氬氣測量應(yīng)用

單晶硅生產(chǎn)中,氬氣作為一種保護(hù)氣體被廣泛使用,其純度要求極高。在單晶硅的生產(chǎn)過程中,氬氣的純度要求小于1.5ppm。為確保這一純度要求,ADEV電化學(xué)氧分析儀被應(yīng)用于測量中。

通過ADEV電化學(xué)氧分析儀的**測量,生產(chǎn)過程中的氬氣純度可以得到有效的監(jiān)控,確保單晶硅的生產(chǎn)質(zhì)量。此外,由于其高靈敏度和響應(yīng)速度,ADEV氧分析儀能夠?qū)崟r反映氬氣純度的變化,為生產(chǎn)工藝的調(diào)整提供及時、準(zhǔn)確的依據(jù)。影響ADEV氧分析儀因素及單晶硅氬氣測量應(yīng)用

總結(jié):

要確保氧分析儀的準(zhǔn)確測量,必須注意泄漏、污染、管道材質(zhì)選擇以及氣路系統(tǒng)的簡化與潔凈等因素。而在單晶硅的生產(chǎn)中,ADEV電化學(xué)氧分析儀的應(yīng)用為確保氬氣的高純度提供了有力支持。

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