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半導體設(shè)備中的微氧控制技術(shù)及藥典微量氧分析儀建議|埃登威自動化系統(tǒng)設(shè)備（上海）有限公司

半導體設(shè)備中的微氧控制技術(shù)及藥典微量氧分析儀建議

在半導體制造過程中，微氧控制是一項至關(guān)重要的技術(shù)，尤其在硅片的傳輸和升降舟進出反應(yīng)室的過程中。這些環(huán)節(jié)中，硅片會與設(shè)備內(nèi)部的氣氛接觸，而氣氛中的氧氣分子可能導致非必要的氧化層形成，從而降低硅片品質(zhì)，甚至導致報廢。

為了解決這一問題，我們通常會使用氧氣（O2）分析儀和氣體質(zhì)量流量控制器來實現(xiàn)閉環(huán)控制，以降低設(shè)備內(nèi)部氣氛中的含氧量。這種控制方式能有效減少不必要的氧化，確保硅片的質(zhì)量。半導體設(shè)備中的微氧控制技術(shù)及藥典微量氧分析儀建議

同時，為了避免微氧控制過程中氣氛壓力超出**范圍，我們采用了基于PLC的閉環(huán)控制模型。這一模型能夠?qū)崟r監(jiān)測和控制氣氛壓力，確保在微氧控制良好的情況下，壓力系統(tǒng)也能可靠運行。

微氧控制是半導體立式爐、氧化爐、擴散爐、退火/推進設(shè)備的重要性能指標。對于這些設(shè)備來說，**控制氣氛中的氧氣濃度至關(guān)重要。而氧氣分析儀則是實現(xiàn)這一目標的關(guān)鍵工具。半導體設(shè)備中的微氧控制技術(shù)及藥典微量氧分析儀建議

氧氣分析儀在半導體設(shè)備中的應(yīng)用具有許多優(yōu)勢。首先，它采用螺紋或法蘭安裝方式，適用于各種安裝環(huán)境。其次，它的量程廣泛，可以從1ppm到25%，能夠滿足各種濃度范圍的需求。此外，該儀器響應(yīng)速度快，精度高，長期穩(wěn)定性好，使用壽命長，特別適合用于半導體氧化/退火爐的工況。

目前，這款氧氣分析儀已經(jīng)在多家國內(nèi)主要半導體設(shè)備廠商中批量使用，并獲得了良好的反饋。這充分證明了它是一款可靠、有效的產(chǎn)品，能夠幫助廠商提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。半導體設(shè)備中的微氧控制技術(shù)及藥典微量氧分析儀建議

總結(jié)來說，微氧控制是半導體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，而氧氣分析儀則是實現(xiàn)這一目標的重要工具。通過采用適當?shù)难鯕夥治鰞x和氣體質(zhì)量流量控制器，以及基于PLC的閉環(huán)控制模型，我們可以有效降低設(shè)備內(nèi)部氣氛中的含氧量，確保硅片的質(zhì)量和可靠性。這不僅有助于提高生產(chǎn)效率，還能為半導體制造行業(yè)的可持續(xù)發(fā)展做出貢獻。半導體設(shè)備中的微氧控制技術(shù)及藥典微量氧分析儀建議

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