ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的革新應(yīng)用
在蒽醌法雙氧水生產(chǎn)工藝中，氫化反應(yīng)單元與氧化反應(yīng)單元作為核心環(huán)節(jié)，不僅關(guān)乎產(chǎn)品質(zhì)量的優(yōu)劣，更是**生產(chǎn)的重中之重。這兩個(gè)單元由于涉及氫氣、過氧化氫等高風(fēng)險(xiǎn)物質(zhì)，極易發(fā)生氫氣閃爆、過氧化氫分解爆炸以及芳烴燃燒等**事故，加之反應(yīng)過程中的失控風(fēng)險(xiǎn)，使得**監(jiān)測(cè)顯得尤為重要。其中，有效的氧含量檢測(cè)不僅能為雙氧水生產(chǎn)提供可靠的質(zhì)量與效率保障，更是預(yù)防**事故的關(guān)鍵手段。
針對(duì)雙氧水生產(chǎn)裝置的關(guān)鍵監(jiān)測(cè)點(diǎn)，我們進(jìn)行了詳盡的布局：ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的革新應(yīng)用
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氫氣總管含氧量監(jiān)測(cè)：在氫化單元啟動(dòng)前，需使用氮?dú)鈱?duì)涉氫管道及設(shè)備系統(tǒng)進(jìn)行置換，確保氧氣濃度低于2%（體積分?jǐn)?shù)）。為此，我們?cè)O(shè)置了氫氣氧含量檢測(cè)儀，從源頭嚴(yán)控氧含量，預(yù)防超標(biāo)風(fēng)險(xiǎn)。
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氫化尾氣含氧量監(jiān)測(cè)：為防止工作液中的微量過氧化氫被夾帶到氫化塔內(nèi)分解引發(fā)爆炸，我們監(jiān)測(cè)尾氣中的氧含量，確保其濃度同樣低于2%（體積分?jǐn)?shù)）。
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氫化塔頂含氧量監(jiān)測(cè)：塔頂出口氧含量過高存在閃爆風(fēng)險(xiǎn)，因此，我們同樣將尾氣氧含量控制在2%（體積分?jǐn)?shù)）以下。
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氧化尾氣氧含量監(jiān)測(cè)：氧化塔或氫化塔頂部出口管線中氣體的氧含量直接反映了氧化反應(yīng)的充分程度。氧含量過高意味著反應(yīng)不充分，且可能與工作液中的重芳烴形成混合爆炸物，引發(fā)裝置爆炸。因此，氧含量的**檢測(cè)在生產(chǎn)過程中具有決定性意義。
傳統(tǒng)上，國(guó)內(nèi)雙氧水裝置多采用磁壓力式氧分析儀進(jìn)行氧化塔頂氧含量的檢測(cè)。然而，這種分析儀易受灰塵、固體粒子及凝液的影響，需設(shè)置復(fù)雜的氣體預(yù)處理系統(tǒng)，不僅影響測(cè)量響應(yīng)速度，還增加了維護(hù)費(fèi)用。ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的革新應(yīng)用
相比之下，ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)基于TDLAS技術(shù)原理，具有顯著優(yōu)勢(shì)。該系統(tǒng)不受其他介質(zhì)干擾，無論原位還是取樣測(cè)量，均表現(xiàn)出響應(yīng)速度快、測(cè)量精度高、維護(hù)方便等特點(diǎn)。在某化工廠20萬噸雙氧水裝置中，ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)成功應(yīng)用于氫化尾氣氧含量監(jiān)測(cè)，有效避免了氧含量過高引發(fā)的爆炸風(fēng)險(xiǎn)。
主要技術(shù)原理及特點(diǎn)：
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激光氣體分析儀測(cè)量原理：利用半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)，通過發(fā)射特定波長(zhǎng)的激光束，測(cè)量激光強(qiáng)度在被測(cè)氣體中的衰減程度，從而**計(jì)算氣體濃度。
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單線光譜技術(shù)：選擇特定波長(zhǎng)的吸收光譜線，避免背景氣體組分的交叉吸收干涉，確保測(cè)量準(zhǔn)確性。
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激光頻率掃描技術(shù)：通過周期性調(diào)制激光頻率，掃描被測(cè)氣體吸收譜線，自動(dòng)修正粉塵和視窗污染對(duì)測(cè)量的影響。
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譜線展寬自動(dòng)修正技術(shù)：根據(jù)氣體溫度和壓力的變化，自動(dòng)修正譜線展寬及高度對(duì)測(cè)量的影響，確保數(shù)據(jù)**性。
ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)具有以下顯著特點(diǎn)：
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檢測(cè)靈敏度高，響應(yīng)速度快，能夠?qū)崟r(shí)反映氣體濃度變化。
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一體化設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊，可靠性高，適用于各種惡劣工業(yè)環(huán)境。
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曲線圖設(shè)計(jì)，直觀展示吸收波線性情況，便于操作與維護(hù)。
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智能化程度高，操作簡(jiǎn)便，維護(hù)方便，大大降低了運(yùn)行成本。
主要技術(shù)指標(biāo)：ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的革新應(yīng)用
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光通道長(zhǎng)度：小于15米
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響應(yīng)時(shí)間：小于1秒
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線性誤差：≤±1%F.S.
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量程漂移：≤±1%F.S./6個(gè)月
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重復(fù)性誤差：≤±1%F.S.
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維護(hù)周期：3-6個(gè)月一次（僅需清潔光學(xué)視窗，無消耗品）
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標(biāo)定周期：3-6個(gè)月一次
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防護(hù)等級(jí)：IP66
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防爆等級(jí)：Exd Ⅱ CT6 Gb
綜上所述，ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的應(yīng)用，不僅提高了氧含量的檢測(cè)精度與響應(yīng)速度，還有效降低了**事故風(fēng)險(xiǎn)，為雙氧水生產(chǎn)的可持續(xù)發(fā)展提供了有力保障。
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