ADEV進(jìn)口激光氣體分析儀
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產(chǎn)品名稱:
ADEV進(jìn)口激光氣體分析儀
產(chǎn)品型號(hào):
Atlats-900
產(chǎn)品展商:
ADEV
產(chǎn)品文檔:
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簡(jiǎn)單介紹
ADEV進(jìn)口激光氣體分析儀Atlats-900型激光氣體分析儀提供現(xiàn)場(chǎng)原位探頭式、旁路式、多通道、盤裝式等多種模式，ADEV進(jìn)口激光氣體分析儀可以在各種復(fù)雜工況下在線分析包括O2、CO、NH3、CO2、CH4、H2O、HCl、HF在內(nèi)的多種氣體（注：?jiǎn)蝹€(gè)分析儀只能分析1～2個(gè)組分），被測(cè)氣體濃度涵蓋常量到微量。激光氧分析儀、激光CO分析儀、激光CH4分析儀、激光氨氣分析儀等
ADEV進(jìn)口激光氣體分析儀 的詳細(xì)介紹
ADEV進(jìn)口激光氣體分析儀
產(chǎn)品概述
Atlats-900激光氣體分析儀基于半導(dǎo)體激光吸收光譜（DLAS）技術(shù)，無(wú)需采樣預(yù)處理系統(tǒng)，能夠在高溫、高粉塵、高腐蝕等惡劣的環(huán)境下進(jìn)行原位（in-situ）氣體濃度測(cè)量的優(yōu)異分析儀表。Atlats-900激光氣體分析儀采用隔爆設(shè)計(jì)，ADEV進(jìn)口激光氣體分析儀無(wú)需對(duì)儀表進(jìn)行正壓吹掃，提高儀表的應(yīng)用適應(yīng)性，為缺乏正壓氣源或氣源壓力不穩(wěn)定的應(yīng)用場(chǎng)合提供了完整的防爆選擇方案。
產(chǎn)品特點(diǎn)
Atlats-900激光氣體分析儀由于采用半導(dǎo)體激光吸收光譜（DLAS）技術(shù)，ADEV進(jìn)口激光氣體分析儀從根本上解決了采樣預(yù)處理帶來(lái)諸如響應(yīng)滯后、維護(hù)頻繁、易堵易漏、易損件多和運(yùn)行費(fèi)用高等各種問(wèn)題，并具有如下特點(diǎn)：
測(cè)量精度高、漂移小
原位隔爆減小對(duì)正壓氣源潔凈度的依賴
操作方便、組網(wǎng)靈活
儀器穩(wěn)定性高
適用行業(yè)
鋼鐵、冶金、熱電、石化、化工、焦化等行業(yè)
ADEV進(jìn)口激光氣體分析儀測(cè)量氣體參數(shù)
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氣體
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測(cè)量精度
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測(cè)量范圍
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O2
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100ppm
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0-1% Vol.,0-100%Vol.
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CO
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10 ppm
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0-1000ppm,0-100%Vol.
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CO2
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10 ppm
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0-2000ppm,0-100%Vol.
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H2O
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0.3 ppm
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0-10ppm,0-100%Vol.
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H2S
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20 ppm
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0-200ppm,0-100%Vol.
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HF
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0.02 ppm
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0-1ppm,0-100%Vol.
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HCl
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0.1 ppm
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0-7ppm,0-100%Vol.
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HCN
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0.3 ppm
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0-20ppm,0-1%Vol.
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NH3
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0.1 ppm
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0-10ppm,0-100%Vol.
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CH4
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0.4 ppm
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0-200ppm,0-100%Vol.
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C2H2
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0.1 ppm
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0-10ppm,0-100%Vol.
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C2H4
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0.6 ppm
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0-100ppm,0-100%Vol.
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CH3I
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0.6 ppm
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0-100ppm,0-100%Vol.
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測(cè)量原理
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可調(diào)諧激光吸收光譜技術(shù)（TDLAS）
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技術(shù)指標(biāo)
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線性誤差
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≤±1％F.S
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量程漂移
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≤±1％F.S/半年
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重復(fù)性
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≤±1％
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防爆等
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ExdIICT6 Gb
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防護(hù)等
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IP66
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響應(yīng)時(shí)間
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預(yù)熱時(shí)間
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≤15min
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響應(yīng)時(shí)間（T90）
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≤1s
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接口信號(hào)
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摸擬量輸出
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2路4-20mA輸出（隔離、*大負(fù)載750Ω）
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繼電器輸出
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3路繼電器（24V，1A）
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模擬量輸入
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2路4-20mA輸入（溫度、壓力補(bǔ)償）
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數(shù)字通訊
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RS485/RS232/GPRS
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激光**標(biāo)準(zhǔn)
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GB 7247,1-2001(idt IEC 60825-1:1993)
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電氣特性
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電源
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24VDC(18~36VDC)
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功耗
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<10W
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EMC
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IEC61000-4-2,,IEC61000-4-3,IEC61000-4-4,IEC 61000-4-5,IEC 61000-4-11
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工作條件
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電氣全安
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IEC 61010-1
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環(huán)境溫度
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－30℃～＋60℃
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存儲(chǔ)溫度
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－40℃～＋80℃
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吹掃氣體
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0.3～0.8MPa工業(yè)氮?dú)?、凈化儀表氣等
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安裝
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安裝方式
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原位安裝
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