日本AMYA天谷制作所 高清光掩模的旋轉式清洗系統(tǒng)WULF系列
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產(chǎn)品名稱:
日本AMYA天谷制作所 高清光掩模的旋轉式清洗系統(tǒng)WULF系列
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簡單介紹
用于高清光掩模的旋轉式清洗系統(tǒng)WULF系列清洗液在待清洗表面上高速擴散快速消除異物和反應產(chǎn)物無水印干燥日本AMYA天谷制作所 高清光掩模的旋轉式清洗系統(tǒng)WULF系列特征隨著LSI性能的不斷提高，光掩模版和掩模版需要具有更高的清晰度和更高的精度。 我們的清潔設備有助于提高這些產(chǎn)品的高清潔度和產(chǎn)量，我們合作生產(chǎn)更**的產(chǎn)品。該裝置配備使用功能水的旋轉清洗裝置，通過工件旋轉的離心力以及臭氧水和氨添加氫水
日本AMYA天谷制作所 高清光掩模的旋轉式清洗系統(tǒng)WULF系列 的詳細介紹
用于高清光掩模的旋轉式清洗系統(tǒng)
WULF系列
清洗液在待清洗表面上高速擴散
快速消除異物和反應產(chǎn)物
無水印干燥
日本AMYA天谷制作所 高清光掩模的旋轉式清洗系統(tǒng)WULF系列
特征
隨著LSI性能的不斷提高，光掩模版和掩模版需要具有更高的清晰度和更高的精度。 我們的清潔設備有助于提高這些產(chǎn)品的高清潔度和產(chǎn)量，我們合作生產(chǎn)更**的產(chǎn)品。
該裝置配備使用功能水的旋轉清洗裝置，通過工件旋轉的離心力以及臭氧水和氨添加氫水的排放，可以去除有機物、金屬離子和異物，*高可達檢測限水平。 通過在清洗液之間切換，可以高速去除工件上的不純沉積物，廢液管理也是一種**環(huán)保的工具。
采用
清洗液和清洗方法替代RCA清洗液 SPM→臭氧水 ?實現(xiàn)完全室溫清洗（無需高溫處理） ?減少口罩
上的化學殘留量 ?廢液處理的**性（ISO14000措施）
SC-1 →氨摻雜氫水
?防止MoSi半色調(diào)掩模的蝕刻
性能
| PSM *終清潔（無 SPM） |
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| 類別 | 不。 | 項目 | 規(guī)范 |
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| 空白 | 1 | 無顆粒 | >32納米 |
| 2 | 預% | ≧95% |
圖像層
（圖案側） | 3 | QZ上的剩余軟缺陷 | ≧0.05um （收益率 ： 98%） |
| 4 | 變速桿上剩余的軟缺陷 | ≧0.05um， ≦10ea （產(chǎn)率 ： 98%） |
| 5 | SRAF （Dark） 缺失 | 不容錯過 |
| 6 | 圖案損壞、ESD、劃痕 | 無損壞 |
| 7 | 換擋桿（相位） | ≦-0.2 度，平均潔凈 10 倍 |
| 8 | 變速桿更換 （Trans.） | ≦0.025%，平均清潔 10 倍 |
| 9 | 換檔桿（CD 平均值） | ≦0.15nm，平均10倍純凈 |
| 10 | 換檔桿（CD 范圍） | ≦0.5nm，平均10倍純凈 |
| 離子殘留物 | 11 | 化學殘留物 （SO4） | ≦0.5 ppb |
| 12 | 化學殘留物 （NH4） | ≦17.0 ppb |
原理圖規(guī)格
大小
| 清洗設備本體 | 7300mm（寬） x 1410mm（深） x 2300mm（高） |
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| 電源箱 | 1400mm（寬） x 500mm（深） x 2150mm（高） |
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| 化工盒 | 2500mm（寬） x 700mm（深） x 2000mm（高） |
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| 過濾盒 | 2600mm（寬） x 700mm（深） x 2000mm（高） |
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| HOT DIW 裝置 | 1250mm（寬） x 550mm（深） x 1750mm（高） |
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| 氫水和碳酸水機組 | 1050mm（寬） x 1500mm（深） x 2000mm（高） |
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| 臭氧水機組 | 570mm（寬） x 850mm（深） x 2000mm（高） |
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| 效用 | - 三相 200 V， - 單相 100 V， - DIW， - 冷卻水， - 清潔干燥的空氣， - 氮氣， - 一般排氣， - 酸性廢氣， - 堿性廢氣 |
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